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　　2013年4月25日，由科技部組織的國(guó)際合作項(xiàng)目“極大規(guī)模集成電路刻蝕機(jī)用高純氧化釔涂層聯(lián)合研發(fā)”驗(yàn)收會(huì)在北京召開(kāi)。該項(xiàng)目的成功實(shí)施，標(biāo)志著極大規(guī)模集成電路芯片制造重大裝備關(guān)鍵零部件國(guó)產(chǎn)化技術(shù)取得了重大突破，芯片刻蝕機(jī)用高純氧化釔防護(hù)涂層技術(shù)研發(fā)獲得成功。
　　隨著極大規(guī)模集成電路“高密度等離子體刻蝕機(jī)”國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，對(duì)刻蝕機(jī)用關(guān)鍵零部件的國(guó)產(chǎn)化研制需求也越來(lái)越緊迫。針對(duì)這一國(guó)家戰(zhàn)略性需求，新材公司在分析研究等離子刻蝕產(chǎn)品工況要求的基礎(chǔ)上，根據(jù)國(guó)際領(lǐng)先防護(hù)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，開(kāi)展了刻蝕機(jī)內(nèi)腔抗等離子沖蝕用防護(hù)涂層技術(shù)研究。突破了高純氧化釔熱噴涂粉末制備、高純氧化釔涂層制備關(guān)鍵技術(shù)，并聯(lián)合德國(guó)GTV熱噴涂工程技術(shù)設(shè)備有限公司研制開(kāi)發(fā)了國(guó)內(nèi)首套適合高純度、高均勻度、高致密度氧化釔陶瓷涂層噴涂專(zhuān)用三陽(yáng)級(jí)高能等離子噴涂及配套系統(tǒng)。在國(guó)內(nèi)首次獲得高純氧化釔熱噴涂粉末制備技術(shù)、高純氧化釔涂層制備工藝技術(shù)及相關(guān)產(chǎn)品。所研制的高純氧化釔粉末純度穩(wěn)定達(dá)到99.9wt%以上，高純氧化釔涂層純度穩(wěn)定達(dá)到99wt%以上，達(dá)到了國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品的先進(jìn)水平。涂層產(chǎn)品經(jīng)國(guó)內(nèi)知名刻蝕機(jī)生產(chǎn)企業(yè)北京北方微電子公司的考核驗(yàn)證，涂層的等離子刻蝕速率降低10～60%，可完全替代國(guó)外產(chǎn)品。
　　課題組共發(fā)表論文8篇，申請(qǐng)專(zhuān)利5項(xiàng)。建成了國(guó)內(nèi)首個(gè)針對(duì)高純度涂層材料及涂層加工的生產(chǎn)線高潔凈中試生產(chǎn)線，可滿足刻蝕機(jī)內(nèi)腔200套/年的加工需求，其設(shè)計(jì)思路可推廣應(yīng)用至整個(gè)熱噴涂行業(yè)。
　　通過(guò)本項(xiàng)目的合作研發(fā)，加強(qiáng)了企業(yè)與國(guó)際知名熱噴涂企業(yè)GTV、Aachen大學(xué)的技術(shù)交流與合作，使我國(guó)進(jìn)入了被美、日等壟斷的高純熱噴涂材料及涂層制備技術(shù)領(lǐng)域，促進(jìn)我國(guó)熱噴涂產(chǎn)品走向高端生產(chǎn)型并服務(wù)于國(guó)際市場(chǎng)，帶動(dòng)熱噴涂行業(yè)的高新技術(shù)發(fā)展，有力地推動(dòng)了相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步。同時(shí)，本項(xiàng)目采用了我國(guó)研究單位組織、應(yīng)用單位參加與非壟斷國(guó)先進(jìn)企業(yè)合作的運(yùn)作模式，為突破制約我國(guó)先進(jìn)裝備制造的瓶頸技術(shù)，打破國(guó)外的技術(shù)壟斷，提供了一條新的解決途徑，創(chuàng)造了有益的合作模式，積累了寶貴的經(jīng)驗(yàn)。